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离子束溅射系统

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  • 蒸发镀膜和溅射镀膜的区别

    真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子束溅射系统。真空蒸发镀膜是在真空度不低于10-2Pa的环境中，用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到定温度，使材料中分子或原子的热振动能量超过表面的束缚能，从而使大量分子或原子蒸发或升华，
    发布时间：2019-05-10   

  • 溅镀工艺的概念及分类

    溅镀,通常指的是磁控溅镀,属于高速低温溅镀法。该工艺使用磁控溅射镀膜仪要求真空度在1×10-3Torr左右，即1.3×10-3Pa的真空状态充入惰性气体氩气(Ar)，并在塑胶基材（阳极）和金属靶材（阴极）之间加上高压直流电，由于辉光放电(g
    发布时间：2019-05-10   

  • 磁控溅射镀膜仪的操作规范

    磁控溅射镀膜仪的操作规范1.正常工作的磁控溅射镀膜仪在开动时，需要先将水管打开，在磁控溅射镀膜仪运行之中要时刻注意水压的状态；2.在离子轰击和蒸发时，要特别注意线路方面的情况，不得触动高压线头，以防触电；3.在用磁控溅射镀膜仪的电子枪的时候
    发布时间：2019-05-10   
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